HORIBA堀場(chǎng) 光柵/掩模粒子檢測(cè)系統(tǒng)
- 產(chǎn)品名稱:HORIBA堀場(chǎng) 光柵/掩模粒子檢測(cè)系統(tǒng)
- 產(chǎn)品型號(hào):PD10-EX
- 產(chǎn)品廠商:HORIBA堀場(chǎng)制作所
- 產(chǎn)品文檔:
HORIBA堀場(chǎng) 光柵/掩模粒子檢測(cè)系統(tǒng)
的詳細(xì)介紹HORIBA堀場(chǎng)制作所 光柵/掩模粒子檢測(cè)系統(tǒng)PD10-EX
HORIBA堀場(chǎng)制作所 光柵/掩模粒子檢測(cè)系統(tǒng)PD10-EX
HORIBA堀場(chǎng)制作所 光柵/掩模粒子檢測(cè)系統(tǒng)PD10-EX
更多詳情咨詢:13024103468 劉經(jīng)理
用一臺(tái)機(jī)器完成顆粒檢測(cè)和去除,提高半導(dǎo)體制造工藝的效率和良率
自1984年推出以來(lái),半導(dǎo)體光刻工藝不可或缺的PD系列粒子檢測(cè)系統(tǒng)不斷發(fā)展,以響應(yīng)客戶的需求,今年是其40周年紀(jì)念日。
新產(chǎn)品“PD10- ex”在流行的常規(guī)型號(hào)“PD10”的基礎(chǔ)上,增加了顆粒去除功能,實(shí)現(xiàn)了一臺(tái)設(shè)備即可完成檢測(cè)和去除。
此外,我們已經(jīng)開(kāi)發(fā)了一個(gè)內(nèi)部單元,支持自動(dòng)光柵/掩模傳輸,有助于更有效的半導(dǎo)體制造工藝和更高的產(chǎn)量。
半導(dǎo)體行業(yè)的分析、測(cè)量和控制需求正在以****的速度變化,變得更加復(fù)雜和多樣化。我們正在努力擴(kuò)展PD10-EX的功能,使其能夠進(jìn)行顆粒組成的一站式分析和膜※1膜厚度的測(cè)量,并且我們將在未來(lái)繼續(xù)呈現(xiàn)新的可能性。
1. 通過(guò)整合顆粒檢測(cè)和去除過(guò)程,提高工作效率和產(chǎn)量
我們的“RP-1”顆粒去除劑的功能,其顆粒去除率超過(guò)95%※2,已與“PD10”集成。
這使得自動(dòng)檢測(cè)和去除顆粒成為可能。它還配備了一個(gè)多端口,允許同時(shí)設(shè)置兩個(gè)包含網(wǎng)格/掩模的病例,允許連續(xù)的顆粒檢測(cè)和去除。
2. 通過(guò)與自動(dòng)輸送設(shè)備連接,促進(jìn)制造過(guò)程中的自動(dòng)化和勞動(dòng)力節(jié)約
我們開(kāi)發(fā)了自己的EFEM(設(shè)備前端模塊:一個(gè)在OHT※3和需要與OHT系統(tǒng)接口的粒子檢測(cè)系統(tǒng)之間傳輸光柵/掩模的單元),用于半導(dǎo)體制造工廠。我們靈活地響應(yīng)客戶的規(guī)格,并有助于自動(dòng)化和節(jié)省勞動(dòng)力-這對(duì)于提高生產(chǎn)力,消除勞動(dòng)力短缺和簡(jiǎn)化制造區(qū)域至關(guān)重要。
※1防塵膜,防止顆粒附著在網(wǎng)線/口罩的圖案表面
※2內(nèi)部測(cè)試結(jié)果,玻璃表面附著5μm玻璃珠。效果可能因使用和條件而異。
※3架空葫蘆運(yùn)輸:一種自動(dòng)運(yùn)輸裝置,使被運(yùn)輸物體處于懸掛狀態(tài),在安裝在吊頂上的軌道上運(yùn)行